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熱噴涂陶瓷和等離子噴涂差距

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熱噴涂陶瓷是一種過程,其中氣態或液態燃料與高壓氧混合并在特定的燃燒室或噴嘴中燃燒。產生高溫、高速燃燒火焰用于噴射。由于燃燒火焰的速度是聲速的幾倍,因此可以在視覺上看到火焰流中明亮的“馬赫日”,因此HVOF通常被稱為噴涂陶瓷。將粉末軸向送入火焰中,將噴射的顆粒加熱至熔融或半熔融狀態,并加速至高達300-500m/s或甚至更高的速度,從而獲得高質量的涂層,熱火焰速度非常高,但溫度相對較低,約為3000℃。對于WC-Co硬質合金,它可以有效地抑制噴涂過程中WC的分解。涂層不僅具有高粘合強度,而且致密且耐用。優異的耐磨性能,其耐磨性大大超過等離子噴涂層,相當于爆炸性噴涂層,并且還超過電鍍硬鉻層、噴涂層,這是其廣泛使用的。



等離子噴涂技術使用由直流電驅動的等離子弧作為熱源,將諸如陶瓷、金屬的材料加熱至熔融或半熔融狀態,并將其高速噴射到預處理工件的表面上以形成牢固粘附的表面層。等電粒噴涂通過等離子弧進行。離子弧是壓縮弧。與自由電弧相比,電弧柱薄,電流密度高,氣體電離度高。因此,它具有高溫,集中能量和良好的電弧穩定性。等離子噴涂的火焰溫度很高,中心溫度可以達到30,000°C,噴嘴出口的溫度可以達到15,000到20,000°C。噴嘴處的火焰流速可以達到1000~2000m/s退出,但衰減很慢。粉末通過粉末進料氣體熔化到火焰中,并通過火焰流速加速到高于150m/s的速度,并噴射到基材上形成薄膜。